摘要：本发明公开了一种具有多稳态且反射色连续可控的双重可擦式防伪新方法及光信息编码领域的应用。该方法和应用具有高热稳定性和强抗疲劳性的特点，其实现依赖于此处所公开的基于内源性手性位阻型烯桥的二芳基乙烯化合物与液晶组成的材料体系。其中基于内源性手性位阻型烯桥的二芳基乙烯具有如下结构特征：这种基于内源性手性位阻型烯桥的二芳基乙烯化合物与液晶组成的材料体系，加工简单、原料成本低、光谱色调节范围广、热稳定性及抗疲劳度优异，有望进一步广泛应用于具有良好热稳定性、强抗疲劳度的双重可擦式防伪及光信息编码领域。
发明专利
申请/专利号：
CN202010425456.8
申请日期：
2020-05-19
公开/公告号：
CN111423868B (发明公开： CN111423868A )
公开/公告日：
2022-12-20
授权/公告日：
申请/专利权人：
华东理工大学；苏州焜煌新材料科技有限公司
发明/设计人：
朱为宏；郑志刚；李卉君；胡宏龙
申请人地址：
200237 上海市徐汇区梅陇路130号