实用新型专利：一种可逆、可变色、多稳态防伪耦合层片

专利类型： 实用新型
申请(专利)号： CN202121340813.7申请日： 2021-06-16
授权公告号： CN215068925U授权公告日： 2021-12-07
申请人： 华东理工大学; 苏州焜煌新材料科技有限公司
地址： 200237 上海市徐汇区梅陇路130号
发明人： 朱为宏; 郑致刚; 胡宏龙; 李卉君
专辑： 工程科技Ⅰ辑
专题： 轻工业手工业